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EUV会杀死多图案吗?


当我第一次开始着手double-patterning (DP)工具早在2010年底,已经有传言称它可能是徒劳的,或者至少,非常短暂的项目,因为极端的紫外线(EUV)光刻近在眼前,让所有多模式(MP)过时了。好吧,当我开始这个项目的第七年,我可以清楚地听到马克吐温的回声,报告……»阅读更多

填满/切自对准Double-Patterning


由David Abercrombie,Rehab Ali,Ahmed Hamed-Fatehy,而Shetha Nolke自对准双重图案(SADP)是一种替代的双图案化过程,用于传统的Litho-蚀刻 - 蚀刻(LELE)方法在大多数先进的生产节点中使用。两种方法之间的主要区别在于,在leel,布局在两个面罩之间分开,第二个掩模与RESP对齐。»阅读更多

双图案自动拼接的缺陷


自从第一个双模(DP)奇周期误差环在一个平面上产生以来,设计者一直渴望有一个神奇的解决方案来解决它。传统上,修正奇周期错误的第一个方法是移动一个多边形或一个多边形的边,以增加间距到一个相邻的多边形在周期中。或者,你可以删除一个多边形,或者把它分成两部分。所有的…»阅读更多

无色vs.彩色双图案设计流程


彩色和无色双图案设计流程-你知道哪一个是最适合你的设计吗?你们的铸造厂允许什么选择?你对其中一个和另一个进行不同的调试吗?在这个简短的视频中,我将演示彩色和无色DP设计流程之间的差异,并解释每种方法的选择和潜在的陷阱。随着对如何设计的更好的理解…»阅读更多

ECOs和多模式:这是可以做到的


由David Abercrombie和Alex Pearson已经写了很多关于如何分解(颜色)布局,以便为需要多地位辐射(MP)的高级过程节点。但是,一项令人忽略的主题是如何有效地对已经着色的设计进行了有效的更改,甚至是录取和处理的。我们倾向于行事,就像所有设计都是第一次通过......»阅读更多

何时何地以及如何颜色我的DP布局?


设计师使用先进的过程技术,需要双重图案,经常发现自己令人难以置疑的是设置或优化他们的设计流动的最佳方式,以确保他们的布局可以在没有浪费时间的错误的情况下分解。由于手动着色即使对于经验丰富的工程师而言,也可能挑战,因此许多人更喜欢使用自动着色解决方案。但是什么时候是最好的时间......»阅读更多

重置对多图案化分解和检查的期望


正如我在本主题的第1部分中所说的,当涉及到多模式(MP)分解和检查时,有多少混乱和误解总是让我感到惊讶。第一篇文章只关注了我必须与客户讨论的关于双模式(DP)的典型主题。我不得不告诉你,使用三重模式(TP)和四重模式-…»阅读更多

重置对多图案化分解和检查的期望


当涉及到多模式(MP)分解和检查时,有多少困惑和误解总是让我感到惊讶。我有时会忘记这在我们的行业中是一个多么新的话题。由于这种短暂的历史,以及设计师必须在有限的时间内获得任何详细的了解其复杂性,似乎在预期中出现了一些严重的脱节……»阅读更多

P&R双模式调试中的案例研究


在我的最后一篇文章中,我们看了一些与双重图案化(DP)相关的独特类型问题的案例研究,该地方和路线(P&R)和芯片整理工程师必须处理。我有一些更有趣的案例研究来告诉你。在现代P&R设计中,特定层上的金属线是单向的(或至少主要是单向的)。long p ...»阅读更多

双模式调试中的案例研究


双重标签(DP)对设计和制造流程的每一部分产生影响。然而,您遇到的问题,他们表现出来的方式,以及这些流动的不同部分可能非常不同的方式解决它们的理想方式。我觉得在过去的六个月里,我花了很多时间,在DP I ...上使用地点和路线(P&R)和芯片整理工程师......»阅读更多

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