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生产设计流程的时序库LVF验证


在过去的几年中,变异建模已经从代表片上变异(OCV)的单一降价因素发展到自由变异格式(LVF),这是当今领先的标准格式,它将变异信息封装在定时库(.libs)中。LVF数据被认为是22nm及以下先进工艺节点的要求。在最小的工艺节点如7nm和…»阅读更多

云特征


库描述是一项需要数天到数周才能完成的计算密集型任务。由于库的规模更大,需要表征的操作条件数量更多,以及在22/20nm和更小的进程节点的库中需要统计变异建模,用于库表征的运行时正在增加。云平台提供了一种加速库特征化的方法。»阅读更多

下一代自由验证和调试


准确的库表征是现代芯片设计和验证的关键步骤。对于拥有数十亿个晶体管的全芯片设计,由于运行时和内存的限制,通过模拟实现定时结束是不可行的。相反,需要使用静态时间分析(STA)的可伸缩方法。这种方法使用Liberty文件来封装库特征,例如…»阅读更多