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用曲线技术弯曲规则

台积电的彭丹平着眼于这项技术的历史障碍。

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曲线ILT的历史障碍是什么?

台积电总监Danping Peng反映出他早期参与ILT的发展,并在发光期间遇到的三个主要障碍在eBeam倡议在2021年SPIE先进的光刻大会期间与Ebeam Initiative的年度活动中的行业专家讨论。在涵盖的主题中,小组讨论了历史障碍和曲线轴的改善与焦点深度(DOF)的改进之间的权衡以及使用可变形状eBeam(VSB)写入器(图1)的增加的光掩模写入时间在这六分钟的六分钟视频摘录中,丹平彭得出结论,通过GPU加速和多梁掩模作家来说,曲线ILT的主要障碍已经很大程度上解决。


图1:SPIE的2021年eBeam计划专题讨论会上关于历史曲线ILT权衡的讨论。

去年7月,代表42家来自半导体生态系统的公司的行业灯具参加了2020 EBEAM倡议灯饰调查。这些亮度被要求反思多个问题,包括他们在2020年被使用的广泛使用。大多数意见是至少几个关键层使用ILT(图2)。这是否仅用于热点?一项调查只能告诉你这么多,但我们的小组成员能够在即将到来的博客中更深入地讨论这个问题,以便为您提供更多的洞察力。


图2:EBEAM倡议调查结果反映了灯具对ILT使用的意见。

我们将继续探讨关于此博客的未来分期付款的曲线罩形状的问题。多梁罩作家如何处理曲线形状,行业的范围将采用超出热点的曲线形状,以及EUV面膜是否将使用曲线形状,除了TSMC之外还将通过Nuflare技术,微米技术和D2S的专家来解决。如果您等不及,您可以观看完整的90分钟面板活动在这里

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