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挑战3/2nm

新的结构,流程和产量/性能问题。

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David Fring,林研究所的计算产品副总裁,谈到即将到来的过程节点的问题,移动到EUV光刻和纳米片晶体管,以及过程变化如何影响产量和设备性能。



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