中文 英语
www.vfacai.com
白皮书

硅硬掩膜材料中的缺陷缓解与表征

最低的缺陷计数来自使用具有专有表面处理的5-nm PTFE NTD2过滤器。

受欢迎程度

从SPIE数字图书馆:

在本研究中,通过监测Si- hm的金属污染物、液体颗粒数和晶片缺陷以及过滤去除率,来确定过滤类型、孔径、介质形态和清洁度对过滤性能的影响。本研究中使用的具有专有表面处理的5-nm PTFE NTD2过滤器显示出最低的缺陷计数。

作者:Vineet亚历山大,1Shyam Paudel,1格伦•护墙板2露西娅D 'Urzo,2维吉尔布里格斯,2蒙纳巴伐利亚,3.Rao瓦拉纳西,2蒂姆•荡妇1尼克•Brakensiek1李维Gildehaus,1迈克•Mesawich2道格拉斯·格雷罗州1

1布鲁尔科学公司(美国)
2Pall公司(美国)
3.内布拉斯加州-林肯大学(美国)

点击在这里阅读全文摘要。



发表评论


(注意:此名称将被公开显示)