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多束罩作家如何在光掩模上启用曲线形状?

无论屏蔽形状如何复杂,多光束掩模写入时间都变得恒定。

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多梁掩模写作被确定为消除最后一个肩部遮蔽形状的障碍之一分期付款这个博客。在2021年SPIE高级光刻会议期间,与行业专家进行的eBeam Initiative小组讨论中,我们的博客系列继续提供了一个教育视频,解释了为什么以及如何减少曲线掩模形状的写入时间。在这两分钟视频摘录图1中所示的虚拟事件,NuFlare技术的面具光刻工程系中的高级技术专家Noriaki Nakayamada解释了多光束掩模写入时间如何变得恒定,无论蒙版形状如何复杂,包括曲线形状。


图1:在SPIE 2021 EBEAM主动板期间的多梁掩模作家讨论。

EUV掩模的更多吞吐量被确定为购买多光束作家的第一驾驶员eBeam主动调查在2020年7月进行的工业夜火(图2)。193i面罩的曲线轴被排名为第三个原因,然后是第四位EUV面具的曲线轴。在一个单独的调查问题中,大多数受访者认为,至少部分地,曲线形状将在2023上用2023使用。


图2:EBEAM倡议2020调查了多梁掩模作家购买的排名原因。

在未来几个月内,我们将在TSMC,Micron Technology和D2S的专家听到Nuflare技术,因为我们探讨了关于掩盖生态系统的其余部分的准备情况的问题,该行业如何在解决方案上进行解决方案曲线数据格式,以及EUV面罩是否将使用曲线形状。我们的最终博客将看起来不仅可以改变制造而且使用曲线形状的半导体芯片的设计。如果您等不及,您可以观看完整的90分钟面板活动在这里



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