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Photomask Ecosystem是否已经准备好曲线ILT?

虽然仍有一些差距需要解决,但专家们对此持乐观态度。

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编写具有曲线形状的掩模所需的时间是采用逆光刻技术(ILT)的主要历史障碍,如上文所述第二部分我们的博客系列在曲线上的掩模形状。经过多年的发展,多梁面膜作家进入生产,其中一个功能是在没有写时间惩罚的情况下写曲线面罩的能力。无论在我们的情况下涵盖了如何复杂,包括掩模形状,包括曲线形状,包括曲线形状的复杂程度,它们的设计如何概述第三部分.生态系统中还有其他障碍吗?我们的博客系列继续在一个视频小组讨论准备口罩生态系统处理曲线形状。

来自NuFlare Technology的Noriaki Nakayamada强调了过去5年的观点。来自美光科技的Ezequiel Russell指出了一些他希望解决的问题,比如曲线形状的通用文件格式。台积电(TSMC)的彭丹平(Danping Peng)指出,从模具到数据库的掩模检查和审核历来都是模仿曼哈顿形状,但在曲线形状上应该不难做到。请观看这段5分钟的视频,以了解对这一重点的完整讨论视频摘自虚拟eBeam Initiative面板(图1)。


图1:在2021年SPIE高级光刻大会上,关于使用曲线形状的掩模生态系统的准备情况的讨论。

每年,EBEMEM倡议对正在塑造半导体行业的关键趋势进行调查。去年7月,代表42家来自半导体生态系统的公司的行业灯具参加了2020 EBEAM倡议灯饰调查.绝大多数的调查受访者认为,至少部分地,曲线形状将在2023的面具上使用。

为了帮助增加通过深入洞察的调查结果,我们将继续从台积电,Nuflare技术,微米技术和D2S的专家带来您的观点,因为我们探讨了有关曲线形状在光掩模上的挑战以及行业方式的曲目形状挑战的问题研究曲线数据格式等解决方案。我们的最终博客将看起来不仅可以改变制造而且使用曲线形状的半导体芯片的设计。如果您等不及,您可以观看完整的90分钟面板活动在这里



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