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制造比特:1月26日

欧盟FIB项目;氢气Dupassivation光刻。

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欧盟FIB项目
欧盟(欧盟)有推出了一个新项目使用聚焦离子束(FIB)系统开发下一代结构和材料。

欧盟项目,被称为纳米材料或FIT4NANO的聚焦离子技术,由Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf(HZDR)组织捕捉。该项目旨在使欧洲研究人员和公司共同开发新的基于FIB的技术和应用。来自30个国家的大约80个实验和理论工作组正在参加该项目。

Fit4Nano是欧盟欧洲科学技术合作(成本)计划的一部分。该计划每年提供高达120,000欧元的FIT4NANO。

在市场上多年来,FIB用于许多应用中。在操作中,将样品放置在FIB系统中。FIB系统使用一束离子,可以用纳米精度修改或“铣削”样本表面,根据Thermo Fisher Scientific。FIB可以产生微小的部件或去除不需要的材料。

使用FIB,FIT4NANO项目希望开发功能纳米结构,2D材料和其他技术。另一个应用涉及开发氦离子显微镜系统,其使用高级焦点离子束以精细分辨率的图像样本。

该项目涉及四组。第一组正在开发新的纳米材料。第二组正在开发新的离子源或FIB的其他部分。另一个团体希望更好地了解离子和固体之间的相互作用。第四组将促进调查结果。

“聚焦离子束为纳米技术的许多应用提供了极大的潜力,”离子诱导的离子束理研究所的离子束理物理学和材料研究所研究所和Fit4Nano项目协调员的纳米结构集团负责人Gregor Hlawacek。“例如,它可以用于纳米级或特别改变局部材料特性的灵活结构。我们的技术对于量子技术,半导体工业或改变二维材料 - 仅由一层或仅几层原子或分子组成的晶体材料来说很重要。FIB在未来的医疗应用中也会发挥重要作用。“

氢气DEPASSIVATIVATION光刻
达拉斯德克萨斯大学开发了一种使用技术开发硅基量子器件的技术氢气Dupassivation光刻(HDL)

该项目的目标是删除Qubit开发中的一些挑战,这是量子计算机中的基本信息单位。

HDL有时被称为无抗抵抗式光刻。在该过程中,在硅表面上形成氢原子。实际上,氢原子用作抗蚀剂。然后,使用扫描隧穿显微镜(STM),尖端注入表面上的电子,这在结构上打破了粘合剂并形成图案。

同时,量子计算与传统计算不同。在经典计算中,信息存储在位中,可以是“0”或“1”。然而,在量子计算中,信息存储在量子比特或QUBits中,或者可以作为“0”或“1”或两者的组合存在。

叠加状态使得量子计算机能够一次执行数百万计数,使其能够优于传统系统。但量子计算仍处于起步阶段,并且有很长的路要走。

德克萨斯大学的研究人员已经找到了一种方法来为硅基Qubits开发提供更好的控制。

在实验室中,研究人员从硅表面开始。然后,它们用氢层涂覆表面。然后,使用具有尖锐尖端的STM,基于装置的所需图案,在表面上移除或操纵氢原子。

但是,有时,STM可以去除错误的原子,创建故障的设备。作为回应,研究人员正在研究一种更精确的方法来操纵原子。下一个挑战之一将是开发一次操作多个STM提示的技术。

“传统的光刻无法达到必要的原子精度。问题是我们正在使用显微镜进行光刻;we’re using a device to do something it’s not designed for,” said Reza Moheimani, the James Von Ehr Distinguished Chair in Science and Technology and a professor of systems engineering in the Erik Jonsson School of Engineering and Computer Science at The University of Texas. “Our latest work increases the precision of the fabrication process. We’re also working to increase throughput, speed and reliability.”



1评论

艾伦rasafar. 说:

感谢您分享这篇前瞻性文章。
这是光刻未来的良好方向。与EUV光刻相比,它可以产生更好的成像和减少的占地面积。

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