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Power AMP Wars开始5G


5G基站对功放芯片和其他射频设备的需求正在增加,为不同公司和技术之间的摊牌创造了条件。功率放大器器件是提高基站射频功率信号的关键部件。它基于两种具有竞争力的技术,硅基LDMOS或射频氮化镓(GaN)。GaN,一种III-V技术,表现优于…“ 阅读更多

原子层蚀刻扩展到新市场


半导体行业正在开发用于原子层蚀刻(ALE)的下一波应用,希望能够在一些新的和新兴市场上立足。ALE,一种在原子尺度上消除材料的下一代蚀刻技术,是用于在工厂中处理高级设备的若干工具之一。虽然技术组织......“ 阅读更多

堆叠,萎缩和检查下一代芯片的挑战


Lam Research首席技术官Rick Gottscho近日接受半导体工程采访,就内存和设备规模德赢娱乐网站【官方平台】、新市场需求以及由成本、新技术和机器学习应用驱动的制造变革进行了讨论。以下是那次谈话的摘录。SE:我们有很多不同的存储技术即将上市。它的影响是什么?…“ 阅读更多

3nm及以上芯片的制造


一些代工厂开始在研发中增加他们新的5nm工艺和3nm工艺。最大的问题是之后会发生什么。2nm节点及以后的工作正在顺利进行,但仍存在许多挑战和一些不确定性。已经有迹象表明,由于各种技术问题,铸造厂已经将3nm的生产计划推迟了几个月……“ 阅读更多

控制3nm及以后的可变性和成本


Lam Research执行副总裁兼首席技术官Richard Gottscho接受半导体工程采访,讨论了如何在制造设备中利用更多传感器数据、向新工艺节点的迁移以及A德赢娱乐网站【官方平台】LE和材料方面的进步,这些都可能对控制成本产生重大影响。以下是那次谈话的摘录。随着越来越多的传感器被加入…“ 阅读更多

原子层蚀刻:对蚀刻艺术的重新思考


原子层蚀刻(ALE)是当今生产中最先进的蚀刻技术。在这种观点中,我们描述了与长期常规蚀刻技术相比的ALE,将其与古代蚀刻艺术背后的潜在原则相关联。曾经被认为太慢,我们展示了如何利用速度比早期的方法快一千倍。虽然si是......“ 阅读更多

一旦再次出现低温腐蚀


经过多年的研发之后,作为生产中的可能选择,作为一种叫做低温蚀刻的技术,因为行业面临内存和逻辑的新挑战。低温蚀刻在寒冷的温度下以高宽高比去除材料中的材料,尽管它一直是一个具有挑战性的过程。低温蚀刻难以控制,它需要专门的低温气体......“ 阅读更多

选择性沉积在哪里?


多年来,该行业一直致力于一种名为“区域选择性沉积”的先进技术,用于5nm及以上的芯片生产。区域选择性沉积技术是一种先进的自对准图形技术,目前仍处于研发阶段,面临一系列挑战。但是,更先进的技术形式开始取得一些进展,可能逐步接近la…“ 阅读更多

原子层沉积如何工作


想象一下,能够一次涂上一些原子层的材料薄膜。因为声音不可能,原子层沉积(ALD)是现实。实际上,它正在越来越多的应用中,作为创造薄膜的极其精确和可控的过程。与其蚀刻对应物 - 原子层蚀刻(ALE) - ALD正在启用美国......“ 阅读更多

变异扩散在10/7nm


随着芯片制造商推动10 / 7nm及以后,不同制造设备之间的变化变得越来越麻烦。过程变化是高级节点的众所周知的现象。但其中一些实际上是由于设备的变化 - 有时来自同一供应商的完全相同的模型。通常这将低于半导体行业的雷达。但是......“ 阅读更多

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