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优化工具集成对于设计成功至关重要


由James Paris和Armen Asatryan的地方和路线(P&R)应用与系统上芯片(SoC)设计实施,分析和验证方法和工具之间的关系一直是一个双向街道。P&R系统是基础,如果您愿意设计实现 - 它需要虚拟并使其物理。但是,它是使用......“ 阅读更多

制造最佳实践的设计


制造业问题是我们在电子行业中看到保修回报和市场份额损失的主要原因之一。电源链故障和印刷电路板组件(PCBA)与设计相关的生产挑战的问题可能导致品牌声誉无法弥补的损坏。因此,公司对公司的设计(DFM)协议I ...是至关重要的。“ 阅读更多

加速与口径NMLVS-RECOR技术市场的时间


有一件事是清楚的...浪花越来越难,需要更长时间。作为创新的早期设计验证技术不断增长的套件的一部分,Caliber NMLVS-Recon工具使设计团队能够迅速检查脏和未成熟的设计,以便更早地找到和修复高冲击电路误差,并更快地导致总体减少磁带时间表和上市时间。rea ...“ 阅读更多

短流量测试阵列的设计和测量要求,以表征新出现的记忆


对于嵌入式和储存级应用,新兴的非易失性存储器越来越有吸引力。后端集成存储器单元的发展挑战是长学习循环和高晶片成本。我们使用交叉点阵列方法提出基于短流的内存阵列表征。详细分析设计要求和可测试性证实令人困惑......“ 阅读更多

eda在云中


Michael White,MiChael White,Menemens Business的Caliber物理验证的产品营销总监Michael White在7,5和3nm上看着越来越多的计算要求,为什么云看起来越来越有吸引力,以及云的方式以及如何云由于新的光刻将影响开发新芯片的成本和复杂性。“ 阅读更多

具有模式匹配和机器学习的快速LFD流程可以更快地提供更高屈服的设计


由Wael Elmanhawy和Joe Kwan一个平版(Litho)热点是在制造期间创建的晶片上的缺陷,通过系统的过程变化和分辨率增强技术(RET)限制。Litho热点通常代表严重的产量批评者,因此在制造之前检测和消除潜在的Litho热点对于实现COM ......“ 阅读更多

一周审查:物联网,安全,汽车


产品/服务Mentor,Siemens Business,宣布发布勇士软件的最终阶段新产品介绍制造技术,自动化印刷电路板设计评论。该公司将DFM技术集成到Xpeition软件布局应用程序中。动脉IP报道,东芝已经录制了下一代高级DRIV ...“ 阅读更多

IC设计:为下一个节点准备


为下一个流程节点做准备的挑战需要铸造厂,江地工生,EDA行业和设计公司的持续准备。了解导师如何为每个“下一个节点”准备级别的Caliber NMPLATForm,并确保其客户具有成功所需的工具和性能。想了解更多,请点击这里。“ 阅读更多

精密旋钮


精确曾经是目标,但越来越多地用作工具。这是针对处理和算法的真实,在那里的精度较低,可以大大提高性能和电池寿命。在制造中,这是真的,在那里更精确的精度可以帮助最小化变化的不断增长的影响。此外,能够拨打精确或向下拨号可以帮助工程师看到对系统的影响......“ 阅读更多

使用传感器数据来提高产量和正常运行时间


半导体设备供应商开始将更多的传感器添加到其工具中,以提高FAB正常运行时间和晶圆收益,并降低所有权成本和芯片故障。从这些工具收集的大量数据有望提供比过去多种类型和变异源的更远的细节,包括何时何地发生变化以及如何,...“ 阅读更多

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