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调查:Ebeam倡议淡淡(以前的感知)调查结果


2020年7月在42家不同公司的77个行业夜火调查说,净中立Covid-19业务影响到2021年,持续24%阳性预测20%的负面预测。点击此处查看调查结果。“ 阅读更多

2019-2020面膜制造商调查结果


eBeam倡议2019-2020年面具制造商调研结果•多光束和EUV趋势变得可见•与去年相比,10家不同公司报告了558,834个掩模•使用多光束掩模写入器编写的掩模增加了一倍以上•EUV掩模产量报告为91%•前沿节点MPC使用量增加(点击此处查看演示)。“ 阅读更多

EBEAM倡议调查报告营养乐观纸张市场前景


每年,EBEMEM倡议进行调查,该调查提供了对塑造半导体行业的关键趋势的宝贵洞察力。今年,代表来自半导体生态系统的42家公司的行业风光参加了2020年的Ebeam倡议展示型调查。89%的受访者对调查预测2020年的Photomask(面具)收入将保持......“ 阅读更多

制造比特:2月5日


多光束Litho Shakeout Multi-Beam E-Beam市场的光刻应用在技术障碍和其他问题中继续进行抖动。上周,ASML宣布已收购了麦地映射的知识产权(IP)资产,这是用于去年年底破产的光刻应用的多光束电子梁工具的荷兰供应商。就像它一样......“ 阅读更多

2018电子波束倡议感知调查结果


7日年度感知调查 - 2018年(7月),EUV信心和多梁仍然很高。EUV感知仍然是积极的。82%的受访者将在2021年底之前预测HVM中的EUV。只有1%的预测EUV永远不会发生。高批量制造业的EUV光刻再次高速度高,期望在EUV的光化面膜检查中继续生长。对NEE的看法......“ 阅读更多

调查:EUV乐观情绪增长


根据EBEAM倡议释放的一项新调查,置信水平对于极端紫外(EUV)光刻仍然很高,但仍然是插入的时序仍然是移动目标。与此同时,根据调查,整体光掩模行业的前景是看涨的。然而,在缺点,在改善面膜型圆面膜方面似乎没有进步......“ 阅读更多

更多的光刻/面膜挑战(第2部分)


德赢娱乐网站【官方平台】半导体工程与Gregory McIntyre讨论光刻和光掩模技术,Gregory McIntyre是Advanced Patterning Department的主任。Harry Levinson,高级研究员和技术研究高级总监[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"];Regina Freed, [getentity id="…“ 阅读更多

下一个面具作家比赛开始了


竞争在面具作家设备业务中升温为两个供应商 - 英特尔/ IMS和Nuflare-VIE,用于新兴的多梁工具段的位置。去年,英特尔通过获取IMS纳米制造,这是一个多梁电子梁面罩作家设备供应商来惊讶该行业。也是去年,IMS,现在是英特尔的一部分,开始运送世界上第一个多梁面膜作家f ...“ 阅读更多

调查:EUV的乐观生长


eBeam Initiative发布的两项新调查显示,市场对极紫外(EUV)光刻技术的乐观情绪正在增长,该调查还披露了一些关于掩模书写工具和其他掩模技术的新数据。在来自[getentity id="22818" e_name="eBeam Initiative"]的一项调查中,受访者透露,他们比e…“ 阅读更多

EUV时代的面具建模


D2S审查欧盟时代掩模建模的挑战,包括需要剂量/形状分离和中档校正,以及GPU加速的影响。https://youtu.be/ivqkovmbk4o.“ 阅读更多

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