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一周审查:制造,测试


芯片制造商和oem几家代工供应商正在建造新的晶圆厂。三星(Samsung)和SK海力士(SK Hynix)等内存供应商也在建设新的产能。另一个例子是,台湾DRAM供应商南雅科技计划在新北市台山南林科技园建造一个新的300mm晶圆厂。该工厂将使用南亚自主研发的10nm级工艺技术生产dram…“ 阅读更多

铸造战开始


领先的铸造厂供应商正在进行新的高赌注支出和技术竞赛,在半导体制造景观中设置舞台。3月份,英特尔重新进入铸造厂业务,将自己定位在前沿的三星和台积电,并反对在较旧节点工作的众多铸造。英特尔宣布计划建立......“ 阅读更多

寻求曲线光掩模


半导体行业在高级曲线上的开发方面取得了明显的进展,这项技术在最先进的节点中对芯片设计具有广泛影响的技术以及更快地制造这些芯片的能力。现在的问题是该技术何时将超越其基于利基的地位和升级为大批量生产。因为你......“ 阅读更多

一周审查:制造,测试


政府政策一点,有一名以为拜登政府将放松当前的关税和出口管制。到目前为止,拜登政府没有改变任何以前的政策,并对这些努力加倍。本周加入了商业部和安全局(BIS),七中国超级普通......“ 阅读更多

一周审查:制造,测试


芯片制造商英特尔在几年前失败的尝试后重新进入代工业务。在新的努力中,英特尔正在建立一个新的独立业务部门,称为英特尔代工服务。作为这些努力的一部分,英特尔已经宣布计划在亚利桑那州建立两个新的晶圆厂。这一扩建项目的投资约为200亿美元。“INTC主持了一次战略更新……“ 阅读更多

EUV颗粒最终准备好了


经过一段延迟后,EUV薄片正在出现并成为临界芯片的大量生产的要求。同时,极端紫外线(EUV)光刻的薄膜景观正在发生变化。ASML是EUV薄片的唯一供应商,正在将这些产品的装配和分配转移到Mitsui。其他人也是开发EUV的薄膜,是一个下一代......“ 阅读更多

碳纳米管FET后追逐


经过近四分之一个世纪的研发,碳纳米管晶体管终于在先进逻辑芯片的潜在应用方面取得了进展。现在的问题是,他们是否会走出实验室,进入工厂。多年来,一些政府机构、公司、铸造厂和大学一直在发展碳纳米管场效应,并取得了进展。“ 阅读更多

一周审查:制造,测试


过去四年来,美国和中国一直卷入贸易战,尤其是在技术领域。美国在这一领域实施了一系列出口管制措施和关税。但这两个超级大国之间的紧张关系可能会有所缓和。“周四有报道称,中国半导体工业协会(CSIA)……“ 阅读更多

制造比特:3月8日


尼康最近的SPIE先进光刻会议的双光束EUV光刻,介绍了双梁极端紫外(EUV)光刻技术。仍然在概念阶段,尼康所谓的EUV投影光学晶片曝光测定机或EUV电机,专为1NM节点左右设计。建议的系统最低分辨率为10nm ...“ 阅读更多

一周审查:制造,测试


芯片制造商和OEM严重的冬季风暴袭击了美国的许多地方,包括德克萨斯州。在奥斯汀,公用事业提供者优先考虑到住宅区。因此,电力和天然气提供商暂时暂停了奥斯汀的半导体制造商,包括三星和恩智浦。“由于德克萨斯州最近的停电,三星奥斯汀Semicon ...“ 阅读更多

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